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本发明公开一种用于环境障碍涂层的粘接层及应用，属于涂层技术领域。本发明通过优化等离子喷涂技术，在Si中分别添加HfC或Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;陶瓷相，粘接层成分为Si和Hf...
该专利属于昆明理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过昆明理工大学授权不得商用。

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