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本技术公开了一种反射型原子气室的光路结构，设计的气室结构属于双腔室结构，在硅片中湿法腐蚀形成存储腔室和光学腔室，两腔室之间由沟道连接，碱金属释放剂填充入存储腔室中，通过与玻璃片阳极键合实现密封，为提高反射率，在光学腔反射侧壁上溅射金属，激光...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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