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本技术公开了一种可实现均匀处理的磁力反应釜，其包括底架，所述底架上表面固定连接有主体，所述主体顶端固定连接有防护机构，所述防护机构上表面固定连接有驱动机构，所述防护机构表面固定连接有进料口，所述驱动机构输出端固定连接有升降结构，所述升降结构...
该专利属于山东轩硕医药科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东轩硕医药科技有限公司授权不得商用。

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