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一种双阻变层局部有源忆阻器及其制备方法技术
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文档序号:41863412
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本发明提供了一种双阻变层局部有源忆阻器及其制备方法,涉及微电子材料与半导体器件,忆阻器包括:由下而上依次设置的衬底、底电极、忆阻功能层和顶电极;忆阻功能层采用多层纳米薄膜制成,忆阻功能层包括第一功能层和第二功能层,第二功能层位于第一功能层之...
该专利属于山东科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过山东科技大学授权不得商用。
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