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本发明提供一种高压二次电路保洁剂，包含以下质量百分比的组成成分：聚乙二醇辛基苯醚１～２０％，壬基酚聚氧乙烯醚１～２０％，正溴丙烷１～３％，Ｃ↓［２］Ｃｌ↓［３］Ｈ↓［３］　１０～２０％，Ｃ↓［３］ＨＣｌ↓［２］Ｆ↓［５］　５～６０％。本发明...
该专利属于张思平所有，仅供学习研究参考，未经过张思平授权不得商用。

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