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一种离子源具有电弧室，所述电弧室具有一个或多个辐射产生特征、包围内部容积的电弧室主体以及限定在其中的至少一个气体入口孔。气体源通过气体入口孔提供诸如源种类气体或卤化物的气体。源种类气体可以是铝基离子源材料，例如二甲基氯化铝。靠近气体入口孔定...
该专利属于艾克塞利斯科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克塞利斯科技公司授权不得商用。

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