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一种在叠层介质层中刻蚀开口的方法，包括：提供基底，所述基底上具有叠层介质层；在所述叠层介质层上形成光刻胶层，接着图形化该光刻胶层，形成开口图案；刻蚀所述开口图案底部的叠层介质层，至该叠层介质层中的最下面一层露出时为止；去除所述光刻胶层；刻蚀...
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