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本申请提供曲线掩模OPC修正方法、装置、介质、程序产品及终端，通过从原始图像中提取采样点，利用采样点进行初步拟合并生成待优化的拟合区域。随后，根据目标函数对待优化的拟合区域进行多轮迭代优化，最终生成经过OPC修正的曲线掩膜版。相较于现有的曼...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

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