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本公开提供了一种石墨载盘及其温度确定方法，属于半导体领域。所述石墨载盘包括：石墨盘本体，所述石墨盘体上开设有多个凹槽；所述多个凹槽间隔分布在所述石墨盘本体的第一表面，所述石墨盘本体的所述第一表面包括发射率系数不同的多个区域。通过将石墨载盘表...
该专利属于华灿光电（浙江）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华灿光电（浙江）有限公司授权不得商用。

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