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本发明公开一种适用于MOCVD设备的气体循环系统，包括：气体供应管路、气体回收管路、储气罐、气体补充管路和循环腔；MOCVD设备的上料腔密封在循环腔内，上下料操作均在循环腔内进行，循环腔与大气隔绝；气体供应管路的输入端与MOCVD设备自身的...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

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