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一种用于高性能电光调制器的单晶薄膜、光波导结构制造技术
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下载一种用于高性能电光调制器的单晶薄膜、光波导结构的技术资料
文档序号:41489163
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本申请提供一种用于高性能电光调制器的单晶薄膜、光波导结构,涉及电光调制器技术领域。单晶薄膜至少包括三层:衬底层、隔离层和薄膜层,在衬底层和隔离层之间设置有缺陷层,隔离层的厚度为7‑25μm。本申请通过采用高厚度的隔离层和采用硅衬底降低微波有...
该专利属于济南晶正电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过济南晶正电子科技有限公司授权不得商用。
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