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本发明提供不使用有害的铬酸及昂贵的钯而能够显示出很高的镀敷析出性且能够减少工序的无电解镀的前处理用组合物、前处理方法、及无电解镀方法。本发明提供一种无电解镀的前处理用组合物，其特征在于，含有10mg/L以上的锰离子和10mg/L以上的一价银...
该专利属于奥野制药工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过奥野制药工业株式会社授权不得商用。

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