温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及基于对聚焦敏感的成本协方差场的辅助特征布置。本发明的一个实施例提供一种确定光学邻近校正后（ＯＰＣ后）掩膜布局内的辅助特征布置的系统。在操作期间，该系统接收代表ＯＰＣ前掩膜布局中的成组多边形的成组目标图案。该系统然后基于目标图案来构...
该专利属于新思科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过新思科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。