下载一种多结垂直腔面发射半导体发光结构及其制备方法的技术资料

文档序号:41382193

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本申请公开了一种多结垂直腔面发射半导体发光结构及其制备方法,其中一种多结垂直腔面发射半导体发光结构包括:衬底;位于衬底一侧且依次堆叠设置的第一布拉格反射镜、谐振腔、第二布拉格反射镜、欧姆接触层和P面电极;谐振腔包括至少两个有源层,相邻的有源...
该专利属于苏州长光华芯光电技术股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州长光华芯光电技术股份有限公司授权不得商用。

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