温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种基于双光子聚合技术制备三维电极的方法及三维电极，属于双光子聚合技术领域，解决了在利用双光子聚合技术制备三维电极的过程中，存在的加工精度不足、分辨率低及难以控制焦点位置和深度的问题，另外还解决了三维电极在使用过程中的兼容性和生...
该专利属于深圳华盛光刻系统有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳华盛光刻系统有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。