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本发明揭露一种应用于依序侧向结晶技术的掩膜及激光结晶的方法，所述掩膜包括多个平行配置的重复图案，该重复图案包括相邻的矩形或者等边三角形，所述矩形或者三角形为遮光或者透光图案，应用本发明所揭露的掩膜于ＳＬＳ技术中，由于掩膜上的图案图形对称的概...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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