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一种光催化装置中多物理场分布规律的分析方法及其应用制造方法及图纸
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下载一种光催化装置中多物理场分布规律的分析方法及其应用的技术资料
文档序号:41336256
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本发明提供了一种分析光催化装置中多物理场分布规律的方法及应用,利用泰勒‑库艾特涡流原理构建三维反应器模型,通过ANSYS‑Fluent模拟反应器内碳点/氯氧化铋光催化降解罗丹明B过程,建立了一个包含了光场、流场、离散相和反应场的综合CFD模...
该专利属于江苏大学所有,仅供学习研究参考,未经过江苏大学授权不得商用。
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