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本发明公开一种基站以及清洁系统,该基站用以与清洁设备配套使用,清洁设备包括设备本体以及设于设备本体的储液箱,储液箱包括箱体以及盖体,箱体设于设备本体,盖体可拆卸盖合于箱体;基站包括基站本体,基站本体设有存放工位,存放工位用以存放盖体。如此设...该专利属于追觅创新科技(苏州)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过追觅创新科技(苏州)有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种基站以及清洁系统,该基站用以与清洁设备配套使用,清洁设备包括设备本体以及设于设备本体的储液箱,储液箱包括箱体以及盖体,箱体设于设备本体,盖体可拆卸盖合于箱体;基站包括基站本体,基站本体设有存放工位,存放工位用以存放盖体。如此设...