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一种具有多区JTE结构的超宽禁带半导体二极管制造技术
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下载一种具有多区JTE结构的超宽禁带半导体二极管的技术资料
文档序号:41320103
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本发明所公开的一种具有多区JTE结构的超宽禁带半导体二极管包括衬底层、外延层、介质层、阴极金属层、JTE区和阳极金属层,其中外延层和衬底层为第一超宽禁带半导体材料;JTE区为第二超宽禁带半导体,与外延层形成异质结结构改善电场分布,优化器件性...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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