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本发明公开一种金属植入物及其表面处理方法，该金属植入物表面具有多个微米级孔洞与多个纳米级孔洞，微米级孔洞与纳米级孔洞通过一阴极处理与一阳极处理反应产生。...
该专利属于财团法人金属工业研究发展中心所有，仅供学习研究参考，未经过财团法人金属工业研究发展中心授权不得商用。

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