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本技术公开了一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，包括蒸镀腔室，蒸镀腔室顶部设有旋转升降平台，所述旋转升降平台下侧设有移动平台，所述移动平台下侧设有设有遮掩板，所述遮掩板上设有待成膜基板，所述待成膜基板上设有待成膜压板，所述遮掩板下方的所述...
该专利属于浙江宏禧科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江宏禧科技有限公司授权不得商用。

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