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本发明公开了一种用于高抗拉高延伸锂电铜箔生产的添加剂及其应用，所用到的添加剂包括A剂、B剂和C剂，其中，A剂的成分和份数为：含硫基团的化合物30‑100份；B剂的成分和份数：明胶5‑10份和含氮的胺类有机物1‑10份；C剂的成分和份数：含醚...
该专利属于九江德福科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过九江德福科技股份有限公司授权不得商用。

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