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本技术提供一种用于真空灭弧室的燃弧机构及包括其的真空灭弧室，其中燃弧机构包括触头和屏蔽部件；所述触头为横磁触头，所述屏蔽部件为单个的金属材质屏蔽筒；所述屏蔽部件设置于所述触头的周围，所述屏蔽部件到所述触头边缘的最小距离大于最大开距的二分之一...
该专利属于伊顿电气有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过伊顿电气有限公司授权不得商用。

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