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本发明揭示了一种用来对包含非铁金属的图案化半导体晶片进行化学机械抛光的化学机械抛光组合物。该化学机械抛光组合物包含非铁金属的抑制剂，聚（乙二醇）甲醚（甲基）丙烯酸酯和１－乙烯基咪唑的共聚物，和水。...
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