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本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，包括：衬底；设置在所述衬底上的转接金属层；设置在所述转接金属层远离所述衬底一侧的第一有机阻挡层和第一无机阻挡层，所述第一无机阻挡层设置在所述第一有机阻挡层远离所述衬底的一侧；设置在所述第一无机...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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