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一种性能可控的二维共栅互补场效应晶体管及其制备方法技术
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文档序号:41232904
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本发明属于半导体器件技术领域,具体为一种性能可控的二维共栅互补场效应晶体管及其制备方法。本发明场效应晶体管包括衬底、位于衬底上的底层二维半导体材料、底层源漏金属电极、氧化物介质层、底层金属栅电极、顶层金属栅电极、位于氧化物介质层上的顶层二维...
该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。
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