下载一种性能可控的二维共栅互补场效应晶体管及其制备方法的技术资料

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本发明属于半导体器件技术领域,具体为一种性能可控的二维共栅互补场效应晶体管及其制备方法。本发明场效应晶体管包括衬底、位于衬底上的底层二维半导体材料、底层源漏金属电极、氧化物介质层、底层金属栅电极、顶层金属栅电极、位于氧化物介质层上的顶层二维...
该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。

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