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本发明涉及功能材料与微纳器件领域，公开了一种铜的光化学沉积方法以及在器件内壁共形沉积铜图案的方法。所述的方法包括：(I‑1)分别将铜盐、光还原剂、中性多齿配体与第一去离子水接触，配制铜盐母液、光还原剂母液和中性多齿配体母液；(I‑2)将所述...
该专利属于北京工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京工业大学授权不得商用。

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