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本发明涉及弹性波器件技术领域，特别涉及一种弹性波器件的制备方法，其包括下列步骤：在衬底上的部分区域形成光阻结构；在衬底和光阻结构上沉积形成IDT金属层，IDT金属层具有延伸脚；在IDT金属层的表面设置自对准层，自对准层未完全覆盖延伸脚；去除...
该专利属于泉州市三安集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过泉州市三安集成电路有限公司授权不得商用。

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