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本发明涉及一种用于制备纳米线阵列的模板的制造方法，采用热膨胀系数小于１５＊１０－６Ｋ－１的衬底材料和热膨胀系数大于５０＊１０－６Ｋ－１的软质薄膜，利用衬底与薄膜两种材料热膨胀系数的巨大差异，在热膨胀系数大的薄膜材料上引入足够大的热应力，然后...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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