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所公开和要求保护的主题涉及具有包含结晶铁电材料的膜的BEOL相容的铁电隧道结及用于制备及沉积这些材料的方法，所述结晶铁电材料包含具有显著(即，约40％或更多)或主要部分的原样沉积(即不需要进一步加工，如后续封盖或退火)的铁电相材料的氧化铪和...
该专利属于分子间公司所有，仅供学习研究参考，未经过分子间公司授权不得商用。

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