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本发明涉及半导体技术领域，提供了一种用于光刻系统的传感器以及用于光刻参数测量的传感器控制方法，所述用于光刻系统的传感器，包括：测量元件、TEC、散热单元和控制单元；所述TEC的冷端与所述测量元件接触，所述散热单元接收所述TEC的热端传输的热...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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