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本发明公开的低表面反射率的单晶硅太阳电池绒面制作工艺，步骤如下：先清洗硅片，去除硅片表面损伤；然后放入ＫＯＨ和异丙醇的混合溶液中，在硅片表面形成大小均匀的金字塔结构；再将具有金字塔结构的硅片放入ＨＦ和Ｆｅ（ＮＯ↓［３］）↓［３］的混合液中腐...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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