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本发明公开了一种防辐射涤纶涂层的湿法转移印花工艺；包括有以下步骤：S1、制备转移印花薄膜；S2、对防辐射涤纶布料进行湿润处理；S3、转移印花薄膜和防辐射涤纶布料进行印花转印；S4、对防辐射涤纶布料的印花进行固色处理；S5、对防辐射涤纶布料进...
该专利属于杭州伟业纺织有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州伟业纺织有限公司授权不得商用。

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