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本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种碳化硅衬底化学机械平坦化的方法，包括：将二氧化铈作为磨料并与溶剂混匀以获取抛光液；所述抛光液中包括氧化剂；采用硬质抛光垫并结合抛光液对碳化硅衬底进行抛光处理即可。通过本发明的方法可以在只采用二氧化铈磨料抛...
该专利属于北京晶亦精微科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京晶亦精微科技股份有限公司授权不得商用。

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