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本申请涉及用于制造纹理化玻璃制品的蚀刻剂。蚀刻剂包含：大于或等于20重量％且小于或等于45重量％的氟化氢铵；大于或等于0.25重量％且小于或等于10重量％的硅化合物；大于或等于5重量％且小于或等于30重量％的盐酸；大于或等于25重量％且小于...
该专利属于康宁股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过康宁股份有限公司授权不得商用。

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