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本技术公开了一种TC轴承制备用抛光装置，包括固定底板，所述固定底板的正上方一侧设置有旋转抛光设备，固定底板的正上方另一侧设置有轴承放置块，轴承放置块的内部水平设置有旋转结构，旋转结构的两侧设置有水平位移机构，轴承放置块的外侧设置有移动定位机...
该专利属于潍坊市宇宏石油机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过潍坊市宇宏石油机械有限公司授权不得商用。

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