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本技术涉及大米抛光技术领域，且公开了一种双相流大米气动抛光装置，包括抛光机体，所述抛光机体的外侧设置有收集机构，收集机构包括收集容器，收集容器的下方设置有两个支撑板，每个支撑板的底面均与抛光机体的上表面相接触，每个支撑板的内壁均固定安装有两...
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