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本申请公开了一种青瓷砚台胚体表面抛光装置，包括装置主体、进料输送带和出料输送带：装置主体的前端面开设有进出料口；进料输送带的一端穿过进出料口并延伸到装置主体的内部；出料输送带的一端穿过进出料口并延伸到装置主体的内部；其中，所述装置主体的内部...
该专利属于中国美术学院所有，仅供学习研究参考，未经过中国美术学院授权不得商用。

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