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本技术公开了一种具备升降与旋转功能的薄膜沉积设备，其应用于半导体衬体的CVD加工中。上述薄膜沉积设备包括真空腔体、托板、位于所述真空腔体内的托架、用于带动所述托架旋转的旋转驱动装置、固定安装在所述托板上的连接框架、用于带动所述连接框架竖向移...
该专利属于上海衍梓智能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海衍梓智能科技有限公司授权不得商用。

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