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本发明涉及一种高发光强度转光膜及其制备方法，所述高发光强度转光膜包括第一保护层、转光层和第二保护层；所述转光层包括质量份数如下的成分：基体树脂60‑100份、转光剂0.5‑2份、改性二氧化钛1‑5份、助剂1‑10份；所述改性二氧化钛为聚乙二...
该专利属于佛山安亿纳米材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佛山安亿纳米材料有限公司授权不得商用。

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