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本发明公开了一种阵列式级联微透镜组的制备方法、阵列化曝光装置及应用。所述制备方法包括：在衬底表面覆设光刻胶层；在第一区域中进行第一欠曝光，在第二区域中进行第二欠曝光，第一区域与第二区域具有重叠部分但不完全重合，重叠部分产生叠加欠曝光，以形成...
该专利属于苏州苏纳光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州苏纳光电有限公司授权不得商用。

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