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本公开涉及一种分析检测装置及乏燃料后处理系统，分析检测装置包括：基座；屏蔽体，固定于基座且包括主体部和封闭部，封闭部用于封闭主体部的开口且可开合；加速器组件和辐射源，加速器组件沿第一方向位于屏蔽体的一侧，且沿第一方向可移动地安装于基座，辐射...
该专利属于同方威视技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过同方威视技术股份有限公司授权不得商用。

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