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本发明公开了一种无透光点的复合铜箔制备方法，具体包括以下步骤：步骤一：将整卷聚合物薄膜放入磁控溅射真空镀膜机内进行真空处理；步骤二：聚合物薄膜经过特殊处理的辊系放卷展开，再在聚合物薄膜双面均磁控溅射一层致密的铜层，使聚合物薄膜金属化；步骤三...
该专利属于九江德福科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过九江德福科技股份有限公司授权不得商用。

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