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半圆缓冲区参数生成方法及装置、半圆缓冲区生成方法及装置,涉及地理信息系统(GIS)和空间分析技术领域。针对现有技术中存在的,现有的生成圆形缓冲区的方法,在处理复杂地形和多边形缓冲区时存在一定的局限性,无法准确生成缓冲区,且在处理大规模数据时...该专利属于大庆安瑞达科技开发有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过大庆安瑞达科技开发有限公司授权不得商用。
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