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本申请公开了一种选择性暴露晶面的单晶模型催化剂及其制备方法和应用，制备方法包括：选择单晶基底；基于目标晶面，构建能暴露目标晶面的图形化方案；在单晶基底上制备光刻胶层，在光刻胶层上制备图形化方案的电极图形；以光刻胶为掩膜，刻蚀单晶基底，去除剩...
该专利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所授权不得商用。

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