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用于与可变形状束(VSB)光刻一起使用的倍缩掩模增强技术(RET)的方法包括：输入将在衬底上形成的所要图案；根据所述衬底的所述所要图案确定初始掩模图案；使用VSB曝光系统针对晶圆质量优化所述初始掩模图案；以及输出所述优化的掩模图案。用于使用...
该专利属于D2S公司所有，仅供学习研究参考，未经过D2S公司授权不得商用。

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