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本发明公开了一种地下空间结构施工方法，包括：S1：土方开挖，将基坑开挖分为两层级结构，完成第一层级支护及挖土；S2：进行第二层级的土方开挖和结构施工，第二层级施工采用土方开挖和结构施工穿插进行；S3：中间支撑柱施；S4：边墙施工；S5：边墙...
该专利属于中国五冶集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国五冶集团有限公司授权不得商用。

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