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一种铁电薄膜制备方法、铁电薄膜及包含其的铁电器件技术
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下载一种铁电薄膜制备方法、铁电薄膜及包含其的铁电器件的技术资料
文档序号:40763402
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本发明公开一种铁电薄膜制备方法、铁电薄膜及包含其的铁电器件。该铁电薄膜制备方法,以TEMAH为铪前驱体,以La‑FMD为镧前驱体,以氧等离子体或水源为氧源,通过原子层沉积技术生长HfLaO薄膜;通过HfO<subgt;2</su...
该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。
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