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提供了一种用于对半导体样品进行缺陷检查的系统和方法。该方法包括：获得半导体样品的原始图像，该原始图像具有被注释为包围缺陷特征的第一区域；在包含第一区域的原始图像中指定第二区域，从而在所述第一区域与所述第二区域之间产生背景区域；在半导体样品的...
该专利属于应用材料以色列公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料以色列公司授权不得商用。

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