下载高含氟负性光刻胶及其在聚合物光波导器件中的应用的技术资料

文档序号:4071082

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本发明属于聚合物光波导材料与器件技术领域,具体涉及一种可用于制备聚合物光波导器件的高含氟负性光刻胶组合物,其由高含氟环氧树脂、光致产酸物和有机溶剂组成。高含氟环氧树脂为一种或几种结构式如(1)所示的化合物,其中,Rf1和Rf2分别独立地表示...
该专利属于吉林大学所有,仅供学习研究参考,未经过吉林大学授权不得商用。

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